上個月去蘇州園區(qū)一家做12寸先進(jìn)封裝的工廠處理故障,他們的干法刻蝕工序最近良率突然掉了2.8個百分點,查了光刻膠、刻蝕氣體都沒問題,最后查到真空系統(tǒng):滿產(chǎn)能生產(chǎn)時,刻蝕腔的工作真空波動超過了±0.2Pa,超出工藝要求的范圍,根源就是當(dāng)初配真空泵的時候留的抽速余量不夠,根本扛不住滿產(chǎn)時連續(xù)生產(chǎn)的放氣量。很多人覺得半導(dǎo)體生產(chǎn)線的核心是光刻機(jī)、刻蝕機(jī),其實真空泵才是保證工藝穩(wěn)定的基礎(chǔ),今天就結(jié)合十幾年的現(xiàn)場經(jīng)驗聊聊這個話題。
半導(dǎo)體制造的三大核心工藝都離不開真空泵:刻蝕、薄膜沉積、離子注入,每一步對真空環(huán)境的要求都有差異,但對穩(wěn)定性、潔凈度、耐腐蝕性的要求是統(tǒng)一的。
干法刻蝕工藝過程中,會不斷釋放氟基、氯基的腐蝕性副產(chǎn)物,不僅要求真空泵能穩(wěn)定維持10-2~10-4Pa的工作真空,還要泵腔本身能抗腐蝕,不會用幾個月就被腐蝕漏汽;同時真空度波動必須控制在±0.1Pa以內(nèi),一旦波動過大,刻蝕速率就會不均勻,線寬誤差超標(biāo),直接導(dǎo)致良率下降。
薄膜沉積不管是PECVD還是PVD,都要求真空環(huán)境絕對潔凈,不能有油蒸氣、顆粒物污染,一旦污染晶圓,沉積的薄膜就會出現(xiàn)針孔、雜質(zhì),直接報廢。離子注入對真空要求更高,除了前級真空要穩(wěn)定,還要避免殘留氣體和離子束反應(yīng),影響注入雜質(zhì)的濃度均勻性,所以前級泵的抽速穩(wěn)定性直接決定了整個高真空系統(tǒng)的性能。
針對半導(dǎo)體三大核心工藝,我整理了實際項目中跑了好幾年驗證的選型方案,給大家做參考:
干法刻蝕工藝,現(xiàn)在主流選擇是耐腐蝕螺桿干泵,單臺12寸刻蝕腔一般配抽速150~300m3/h的型號就行,干泵沒有油污染,泵腔做防腐處理之后,能長期承受腐蝕性副產(chǎn)物,穩(wěn)定性比傳統(tǒng)油式泵好很多,我們給客戶配過鮑斯、愛德華的干泵,都能滿足連續(xù)生產(chǎn)的要求。
薄膜沉積工藝,PVD和PECVD都對潔凈度要求極高,為了避免油蒸氣返滲污染晶圓,前級泵基本都用干泵,配合分子泵組實現(xiàn)高真空;如果是舊生產(chǎn)線改造用旋片泵,必須選帶防返油裝置的型號,不然很容易出現(xiàn)晶圓污染的問題。
離子注入工藝,因為需要10-4Pa以上的極限真空,所以基本都是多級真空機(jī)組,前級用大抽速干泵穩(wěn)定維持前級壓力在1Pa以下,給后級分子泵提供合適的工作條件,前級壓力波動不能超過0.5Pa,不然分子泵的抽速會受影響,整個系統(tǒng)的極限真空就達(dá)不到要求。
蘇州嘉科(www.haodondon.cn)做選型的時候,都會先幫客戶算清楚管路漏率、工藝放氣量,再留足15%~20%的抽速余量,不會出現(xiàn)滿產(chǎn)掉壓的問題。
很多工廠的真空泵出問題,不是選型錯了,是維護(hù)不到位,有幾個細(xì)節(jié)很多人都不注意:
第一個是泵腔積碳吹掃,半導(dǎo)體工藝的副產(chǎn)物會不斷沉積在泵腔內(nèi)壁,時間長了會縮小泵腔容積,降低抽速,一般普通工藝3個月吹掃一次,腐蝕性強(qiáng)的工藝一個月一次,吹掃用干燥氮?dú)饩托?,能大大延長泵的使用壽命。
第二個是排氣過濾器提前更換,很多人都是過濾器堵了壞了才換,其實應(yīng)該按運(yùn)行小時換,一般干泵的排氣過濾器5000小時就要換,油旋泵的油過濾器3000小時換,不然排氣背壓升高,抽速會降10%~20%,慢慢就影響真空穩(wěn)定。
第三個是軸封定期檢查,腐蝕性氣體會慢慢侵蝕軸封,哪怕沒有外漏,也要一年拆檢一次,一旦軸封漏了,外界空氣進(jìn)泵腔,不僅真空度上不去,還會氧化工藝副產(chǎn)物,生成更多雜質(zhì),污染整個真空腔。
現(xiàn)在先進(jìn)半導(dǎo)體制程對真空穩(wěn)定性的要求越來越高,很多工廠在做舊線改造的時候,都想著直接換更高端的真空泵,其實很多時候問題不出在泵本身,而是管路設(shè)計、余量計算或者維護(hù)不到位,先排查這些基礎(chǔ)問題,再考慮換設(shè)備,能省不少冤枉錢。
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